Optiese ontwerp het 'n wye verskeidenheid toepassings in die halfgeleierveld. In 'n fotolithografie -masjien is die optiese stelsel verantwoordelik om die ligbalk wat deur die ligbron vrygestel word, te fokus en dit op die silikonplaat te projekteer om die stroombaanpatroon bloot te stel. Daarom is die ontwerp en optimalisering van optiese komponente in die fotolithografie -stelsel 'n belangrike manier om die werkverrigting van die fotolithografie -masjien te verbeter. Die volgende is enkele van die optiese komponente wat in fotolithografie -masjiene gebruik word:
Projeksiedoelwit
01 Die projeksiedoelwit is 'n belangrike optiese komponent in 'n litografie -masjien, wat gewoonlik bestaan uit 'n reeks lense, insluitend konvekse lense, konkawe lense en prismas.
02 Die funksie daarvan is om die stroombaanpatroon op die masker te krimp en op die wafel bedek met fotoresist.
03 Die akkuraatheid en prestasie van die projeksiedoelwit het 'n deurslaggewende invloed op die resolusie en beeldkwaliteit van die litografiemasjien
Spieël
01 Spieëlsword gebruik om die ligrigting te verander en dit na die regte plek te rig.
02 In EUV -litografiemasjiene is spieëls veral belangrik omdat EUV -lig maklik deur materiale opgeneem word, sodat spieëls met 'n hoë reflektiwiteit gebruik moet word.
03 Die oppervlak akkuraatheid en stabiliteit van die weerkaatser het ook 'n groot invloed op die werkverrigting van die litografiemasjien.
Filters
01 Filters word gebruik om ongewenste golflengtes van lig te verwyder, wat die akkuraatheid en kwaliteit van die fotolitografieproses verbeter.
02 Deur die toepaslike filter te kies, kan daar verseker word dat slegs die lig van 'n spesifieke golflengte die litografiemasjien binnedring en sodoende die akkuraatheid en stabiliteit van die litografieproses verbeter.
Prismas en ander komponente
Daarbenewens kan die litografiemasjien ook ander hulpoptiese komponente, soos prismas, polarisators, ens. Gebruik om aan spesifieke litografievereistes te voldoen. Die seleksie, ontwerp en vervaardiging van hierdie optiese komponente moet die toepaslike tegniese standaarde en vereistes streng volg om die hoë presisie en doeltreffendheid van die litografiemasjien te verseker.
Samevattend is die toepassing van optiese komponente op die gebied van litografiemasjiene daarop gemik om die werkverrigting en produksiedoeltreffendheid van litografiemasjiene te verbeter en sodoende die ontwikkeling van die vervaardigingsbedryf vir mikro -elektroniese middels te ondersteun. Met die deurlopende ontwikkeling van litografietegnologie, sal die optimalisering en innovasie van optiese komponente ook 'n groter potensiaal bied vir die vervaardiging van die volgende generasie skyfies.
Besoek ons webwerf byhttps://www.jiujonoptics.com/Om meer te wete te kom oor ons produkte en oplossings.
Postyd: Jan-02-2025
