Optiese ontwerp het 'n wye reeks toepassings in die halfgeleierveld. In 'n fotolitografiemasjien is die optiese stelsel verantwoordelik om die ligstraal wat deur die ligbron uitgestraal word te fokus en dit op die silikonwafel te projekteer om die stroombaanpatroon bloot te lê. Daarom is die ontwerp en optimalisering van optiese komponente in die fotolitografiestelsel 'n belangrike manier om die werkverrigting van die fotolitografiemasjien te verbeter. Die volgende is van die optiese komponente wat in fotolitografiemasjiene gebruik word:
Projeksie doelwit
01 Die projeksiedoelwit is 'n belangrike optiese komponent in 'n litografiemasjien, wat gewoonlik uit 'n reeks lense bestaan, insluitend konvekse lense, konkawe lense en prismas.
02 Die funksie daarvan is om die stroombaanpatroon op die masker te krimp en dit te fokus op die wafel wat met fotoresist bedek is.
03 Die akkuraatheid en werkverrigting van die projeksiedoelwit het 'n deurslaggewende invloed op die resolusie en beeldkwaliteit van die litografiemasjien
Spieël
01 Spieëlsword gebruik om die rigting van lig te verander en dit na die regte plek te rig.
02 In EUV-litografiemasjiene is spieëls veral belangrik omdat EUV-lig maklik deur materiale geabsorbeer word, dus moet spieëls met hoë reflektiwiteit gebruik word.
03 Die oppervlakakkuraatheid en stabiliteit van die weerkaatser het ook 'n groot impak op die werkverrigting van die litografiemasjien.
Filters
01 Filters word gebruik om ongewenste golflengtes van lig te verwyder, wat die akkuraatheid en kwaliteit van die fotolitografieproses verbeter.
02 Deur die toepaslike filter te kies, kan verseker word dat slegs lig van 'n spesifieke golflengte die litografiemasjien binnedring, en sodoende die akkuraatheid en stabiliteit van die litografieproses verbeter.
Prismas en ander komponente
Daarbenewens kan die litografiemasjien ook ander optiese hulpkomponente gebruik, soos prismas, polarisators, ens., om aan spesifieke litografievereistes te voldoen. Die keuse, ontwerp en vervaardiging van hierdie optiese komponente moet die relevante tegniese standaarde en vereistes streng volg om die hoë akkuraatheid en doeltreffendheid van die litografiemasjien te verseker.
Samevattend, die toepassing van optiese komponente in die veld van litografiemasjiene het ten doel om die werkverrigting en produksiedoeltreffendheid van litografiemasjiene te verbeter en sodoende die ontwikkeling van die mikro-elektroniese vervaardigingsbedryf te ondersteun. Met die voortdurende ontwikkeling van litografietegnologie sal die optimalisering en innovasie van optiese komponente ook groter potensiaal bied vir die vervaardiging van volgende generasie skyfies.
Vir meer insigte en kundige advies, besoek ons webwerf byhttps://www.jiujonoptics.com/om meer te wete te kom oor ons produkte en oplossings.
Postyd: Jan-02-2025
